蚀刻工艺原理

蚀刻原理：

通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

工艺流程：

曝光法：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK

网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK

蚀刻优版： 采用喷墨打印技术将抗腐蚀墨水打印到材料表面，再经过固化（一般是用光固化也有用热固化）即可获得抗腐蚀层然后可以进行下一步化学腐蚀或者电腐蚀。